I transistor GaN HEMT sono una tecnologia promettente nel campo dell’alta frequenza, ma presentano ancora grandi problemi di affidabilità. Lo scopo di questo lavoro è stato quello di indagare i meccanismi di degrado di questi dispositivi, confrontando la stabilità di due diverse tecnologie. Dopo una caratterizzazione preliminare tramite misure DC, impulsate e di elettroluminescenza si sono sottoposti i dispositivi ad una serie di stress in tensione a medio termine

Analisi della stabilità di due generazioni di transistor GaN HEMT per applicazioni spaziali

Dalcanale, Stefano
2013/2014

Abstract

I transistor GaN HEMT sono una tecnologia promettente nel campo dell’alta frequenza, ma presentano ancora grandi problemi di affidabilità. Lo scopo di questo lavoro è stato quello di indagare i meccanismi di degrado di questi dispositivi, confrontando la stabilità di due diverse tecnologie. Dopo una caratterizzazione preliminare tramite misure DC, impulsate e di elettroluminescenza si sono sottoposti i dispositivi ad una serie di stress in tensione a medio termine
2013-10-08
GaN, HEMT, reliability, failure mechanism
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12608/17454