In questa tesi sono state svolte misure DC, Double Pulse e DLTS su transistor HEMT AlGaN/GaN con diverse soluzioni progettuali: variazione dello spessore dello strato superficiale di GaN, dello spessore dello strato UID (UnIntentionally Doped) e della percentuale di drogaggio del buffer con carbonio. In particolare, sono emerse correlazioni tra la percentuale di carbonio e l’entità di alcuni fenomeni quali il current collapse, il DIBL, il leakage di gate e l’intrappolamento di carica
Analisi delle correnti di leakage su transistor HEMT AlGaN/GaN al variare del drogaggio del buffer con carbonio
Vanuzzo, Alberto
2015/2016
Abstract
In questa tesi sono state svolte misure DC, Double Pulse e DLTS su transistor HEMT AlGaN/GaN con diverse soluzioni progettuali: variazione dello spessore dello strato superficiale di GaN, dello spessore dello strato UID (UnIntentionally Doped) e della percentuale di drogaggio del buffer con carbonio. In particolare, sono emerse correlazioni tra la percentuale di carbonio e l’entità di alcuni fenomeni quali il current collapse, il DIBL, il leakage di gate e l’intrappolamento di caricaFile in questo prodotto:
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https://hdl.handle.net/20.500.12608/19598