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Tipologia | Anno | Titolo | Titolo inglese | Autore | File |
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Lauree triennali | 2020 | La tecnica CVD (Chemical Vapor Deposition): da precursori molecolari a nanomateriali a base di ossidi dei metalli della prima serie di transizione | The CVD technique (Chemical Vapor Deposition): from molecular precursors to nanomaterials based on metal oxides of the first transition series | STURARO, TOMMASO |
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