La tecnica CVD (Chemical Vapor Deposition): da precursori molecolari a nanomateriali a base di ossidi dei metalli della prima serie di transizione

STURARO, TOMMASO
2020/2021

2020
The CVD technique (Chemical Vapor Deposition): from molecular precursors to nanomaterials based on metal oxides of the first transition series
Tecnica CVD
Nanomateriali
Precursori metallici
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12608/3773