Da studi svolti su un getto di ghisa sferoidale contenente silicio, con l’utilizzo dell’attacco chimico “B” e delle analisi fatte al microscopio elettronico a scansione “SEM”, risulta che la distribuzione del silicio all’interno di questo materiale non è uniforme. Emergono infatti zone più ricche messe in evidenza dall’attacco “B” che provoca l’assunzione di una colorazione vicina al blu e zone più povere le quali, inseguito all’attacco, assumono una colorazione marrone (corrispondenza colorazione-densità di silicio confermata dalle analisi al SEM). Tenendo conto delle proprietà che il silicio conferisce alla ghisa in funzione del tenore contenuto, si è posto l’obiettivo di andare ad omogeneizzare la sua presenza all’interno della ghisa sferoidale analizzata. In particolare, lo scopo del seguente studio è quello di eseguire una ricottura di omogeneizzazione a 740°C seguita da un rapido raffreddamento in acqua in modo tale da congelare la struttura formatasi all’alta temperatura raggiunta, e, eseguire delle successive analisi sul materiale per vedere se il trattamento termico ha prodotto l’effetto desiderato. L’obbiettivo dell’omogeneizzazione è quello di andare a ridurre il silicio nelle zone in cui risulta più ricco facendolo migrare verso le zone più povere così da ottenere una sua presenza uniforme in tutto il materiale. Si pone attenzione anche alla dimensione dei grani della matrice ferritica e alla durezza del materiale pre e post trattamento in modo tale da poter individuare un’eventuale correlazione tra queste grandezze e la ridistribuzione del Silicio (nel caso in cui questa avvenga).

Segregazioni di silicio in SSF-DI e trattamento termico di omogeneizzazione

SARTORI, NICOLA
2021/2022

Abstract

Da studi svolti su un getto di ghisa sferoidale contenente silicio, con l’utilizzo dell’attacco chimico “B” e delle analisi fatte al microscopio elettronico a scansione “SEM”, risulta che la distribuzione del silicio all’interno di questo materiale non è uniforme. Emergono infatti zone più ricche messe in evidenza dall’attacco “B” che provoca l’assunzione di una colorazione vicina al blu e zone più povere le quali, inseguito all’attacco, assumono una colorazione marrone (corrispondenza colorazione-densità di silicio confermata dalle analisi al SEM). Tenendo conto delle proprietà che il silicio conferisce alla ghisa in funzione del tenore contenuto, si è posto l’obiettivo di andare ad omogeneizzare la sua presenza all’interno della ghisa sferoidale analizzata. In particolare, lo scopo del seguente studio è quello di eseguire una ricottura di omogeneizzazione a 740°C seguita da un rapido raffreddamento in acqua in modo tale da congelare la struttura formatasi all’alta temperatura raggiunta, e, eseguire delle successive analisi sul materiale per vedere se il trattamento termico ha prodotto l’effetto desiderato. L’obbiettivo dell’omogeneizzazione è quello di andare a ridurre il silicio nelle zone in cui risulta più ricco facendolo migrare verso le zone più povere così da ottenere una sua presenza uniforme in tutto il materiale. Si pone attenzione anche alla dimensione dei grani della matrice ferritica e alla durezza del materiale pre e post trattamento in modo tale da poter individuare un’eventuale correlazione tra queste grandezze e la ridistribuzione del Silicio (nel caso in cui questa avvenga).
2021
Silicon segregations in SSF-DI and homogenization heat treatment
ghisa
silicio
trattamento termico
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