Virtual metrology for semiconductor manufacturing applications

Per essere competitive nel mercato, le industrie di semiconduttori devono poter raggiungere elevati standard di produzione a un prezzo ragionevole. Per motivi legati tanto ai costi quanto ai tempi di esecuzione, una strategia di controllo della qualità che preveda la misurazione completa del prodotto non è attuabile; i test sono eettuati su un ristretto campione dei dati originali. Il traguardo del presente lavoro di Tesi è lo studio e l'implementazione, attraverso metodologie di modellistica tipo non lineare, di un algoritmo di metrologia virtuale (Virtual Metrology) d'ausilio al controllo di processo nella produzione di semiconduttori. Infatti, la conoscenza di una stima delle misure non realmente eseguite (misure virtuali) può rappresentare un primo passo verso la costruzione di sistemi di controllo di processo e controllo della qualità sempre più ranati ed ecienti. Da un punto di vista operativo, l'obiettivo è fornire la più accurata stima possibile delle dimensioni critiche a monte della fase di etching, a partire dai dati disponibili (includendo misurazioni da fasi di litograa e deposizione e dati di processo - ove disponibili). Le tecniche statistiche allo stato dell'arte analizzate in questo lavoro comprendono: - multilayer feedforward networks; Confronto e validazione degli algoritmi presi in esame sono stati possibili grazie ai data-set forniti da un'industria manifatturiera di semiconduttori. In conclusione, questo lavoro di Tesi rappresenta un primo passo verso la creazione di un sistema di controllo di processo e controllo della qualità evoluto e essibile, che abbia il ne ultimo di migliorare la qualità della produzione.