Questo lavoro di tesi si riferisce a misure di efficienza di schermatura su depositi nanometrici ottenuti con tecnica magnetron sputtering. In particolare si è assistito alla realizzazione di film, sui quali poi sono state effettuate le campagne di misura per definirne l’efficienza di schermatura. Il "mezzo" che le ha consentite è un nuovo prototipo di cella TEM coassiale la cui grossa novità rispetto alle celle tradizionali presentate negli standard ASTM risiede nel conduttore centrale smontabile e rimontabile per avvitamento. Ciò consente di “stringere” il campione oggetto di prova in una sorta di morsa permettendo un contatto di elevata intensità (pressione) riducendo quindi di molto il problema della resistenza di contatto, il cui effetto è quello di una riduzione dell’efficienza di schermatura. Si possono quindi evitare le grosse complicazioni delle celle tradizionali: la verniciatura dei contatti con argento nella cella secondo standard ASTM ES7-83 (che ne complica notevolmente la ripetibilità della misura) e il problema dell’utilizzo di due campioni (di misura e di riferimento) in quella secondo standard ASTM 4935-10. I risultati ottenuti nelle due prove di misura confortano tale studio, dato che sono stati trovati valori di resistenza di contatto dell’ordine dei milliohm o frazioni di milliohm, valori in generale difficilmente ottenibili con altri tipi di cella

Prove di misura di efficienza di schermatura con cella TEM coassiale

Rampazzo, Davide
2011/2012

Abstract

Questo lavoro di tesi si riferisce a misure di efficienza di schermatura su depositi nanometrici ottenuti con tecnica magnetron sputtering. In particolare si è assistito alla realizzazione di film, sui quali poi sono state effettuate le campagne di misura per definirne l’efficienza di schermatura. Il "mezzo" che le ha consentite è un nuovo prototipo di cella TEM coassiale la cui grossa novità rispetto alle celle tradizionali presentate negli standard ASTM risiede nel conduttore centrale smontabile e rimontabile per avvitamento. Ciò consente di “stringere” il campione oggetto di prova in una sorta di morsa permettendo un contatto di elevata intensità (pressione) riducendo quindi di molto il problema della resistenza di contatto, il cui effetto è quello di una riduzione dell’efficienza di schermatura. Si possono quindi evitare le grosse complicazioni delle celle tradizionali: la verniciatura dei contatti con argento nella cella secondo standard ASTM ES7-83 (che ne complica notevolmente la ripetibilità della misura) e il problema dell’utilizzo di due campioni (di misura e di riferimento) in quella secondo standard ASTM 4935-10. I risultati ottenuti nelle due prove di misura confortano tale studio, dato che sono stati trovati valori di resistenza di contatto dell’ordine dei milliohm o frazioni di milliohm, valori in generale difficilmente ottenibili con altri tipi di cella
2011-10-14
93
misure di efficienza di schermatura, schermi planari nanometrici, cella tem coassiale.
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12608/15148