La tesi analizza le capacità di trasferimento di pattern nanometrici tramite litografia UV e imprinting per resist ibridi O/I a base di allumina

Resist altamente inorganici a base di allumina patternabili tramite litografia UV e imprinting

Donzellini, Giacomo
2012/2013

Abstract

La tesi analizza le capacità di trasferimento di pattern nanometrici tramite litografia UV e imprinting per resist ibridi O/I a base di allumina
Scuola di Ingegneria
2012-09-28
39
allumina, resist, litografia UV, imprinting, materiali ibridi
Lauree triennali
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12608/16316