Deposizione e caratterizzazione di film sottili realizzati via E-Beam evaporation

In questo lavoro è stata trattata la tecnica di deposizione Electron Beam Evaporation, con la quale sono stati depositati alcuni film sottili. I materiali utilizzati per le deposizioni sono stati cromo, alluminio e fluoruro di magnesio. I film di cromo sono serviti per la caratterizzazione delle dinamiche di deposizione, il fluoruro di magnesio è stato utilizzato per la realizzazione di superfici antiriflesso e per gli specchi di alluminio, caratterizzati dalla sovrapposizione di un film di alluminio e un film di fluoruro di magnesio. Di tutti i film sottili realizzati sono state eseguite misure di spessore e rugosità al profilometro, e analisi di riflettività allo spettrofotometro