Realizzazione e caratterizzazione di componenti ottici per il FUV per applicazioni spaziali

Il lavoro di tesi è focalizzato sulle tecniche di deposizione e caratterizzazione ottica di reticoli di diffrazione adottati per la realizzazione del dimostratore di uno spettrometro, che verrà realizzato nell'ambito del progetto PLUS finanziato dall'Agenzia Spaziale Italiana. Le attività svolte nell'ambito di questo progetto rappresentano il primo passo per lo sviluppo di uno spettrometro in grado di effettuare, in future missioni planetarie, osservazioni a lunghezze d'onda corte. In particolare, le esperienze che mi hanno vista coinvolta sono state svolte nei laboratori del CNR-IFN di Padova e si sono focalizzate inizialmente sul deposito del coating ottico e sulla caratterizzazione ottico-morfologica di un reticolo ottimizzato per lavorare nell'ultravioletto lontano (FUV, 115-200 nm); successivamente si sono incentrate sulla sola caratterizzazione ottico-morfologica di un reticolo ottimizzato per lavorare nell'estremo ultravioletto (EUV, 55-120 nm). Il coating per il reticolo FUV è stato realizzato tramite la tecnica di evaporazione per e-beam, depositando uno strato di Alluminio (Al) protetto con Fluoruro di Magnesio (MgF2), per renderlo efficiente nel range di lunghezze d'onda d'interesse. Il coating del reticolo EUV è invece di Carburo di Silicio (SiC) ed è stato depositato da partner del progetto mediante la tecnica di sputtering. Entrambi i reticoli sono stati caratterizzati dal punto di vista morfologico attraverso l'utilizzo di un profilometro e di un microscopio a forza atomica (AFM), con i quali si è misurato sia lo spessore totale degli strati dopo la deposizione sia la qualità della superficie del reticolo, prima e dopo il deposito. Infine, tramite il riflettometro EUV/FUV in configurazione Johnson-Onaka, i due reticoli sono stati caratterizzati otticamente andando a studiare le loro prestazioni in riflettività.